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真空鍍膜

真空鍍膜

真空鍍膜

1、電阻蒸發鍍
2、電子槍蒸發鍍
3、二級濺射
4、二級磁控濺射
5、三級磁控濺射
6、中頻雙脈沖磁控濺射
7、陰極弧
8、空心陰極
9、PECVD等離子體化學氣相沉積

1、電阻蒸發鍍:在真空條件下,通電加熱或電子槍加熱形式把被鍍材料氣化,沉積在被鍍物體上叫蒸鍍。
2、電子槍蒸發鍍:在真空條件下,利用加速電子轟擊鍍膜材料加熱蒸發,并形成膜。這也是蒸發鍍的一種。特點為:電子槍發出電子束具有極高能量密度,加熱溫度可達3000-6000℃,可以蒸發難溶金屬或化合物,目前廣泛應用在光學鍍膜上。
3、二級濺射:在真空條件下,將被鍍材料物體(物體)帶高負電壓,室體帶正電壓形成回路。二級放電將被鍍物體濺射下來附著在被鍍物體上形成二級濺射。
4、二級磁控濺射:在二級濺射基礎上,把陰極加上磁場。磁場與二級電場形成正交電磁場。在放電過程中電子在靶表面做螺旋管滾動,增強等離子體密度從而提高濺射速率。因此磁控濺射的濺射速率遠高于二級濺射。
5、三級磁控濺射:是在磁控濺射基礎上再另一對電極形成三級濺射。三級濺射比磁控濺射離化率更高,同時對膜層附著力,鍍膜質量都有所提高。
6、中頻雙脈沖磁控濺射:是在磁控濺射基礎上將直流電源改為中頻雙脈沖電源,同時1臺電源帶1對磁控靶,兩靶之間形成回路,這種方法濺射叫中頻雙脈沖磁控濺射鍍膜,它與磁控濺射相比有很多優越性能,尤其是在鍍反應膜、氧化膜等都具有不易中毒;靶可以長期穩定工作?,F在磁控濺射選用較多方法是中頻雙脈沖磁控濺射。裝飾涂層,燈具,工具以及汽車行業等方面都有廣泛的應用。
7、陰極?。宏帢O?。ǘ嗷。┠壳皬V為人們使用。工作原理是在真空條件下,通過陰極產生弧光放電,將被鍍物蒸發+濺射鍍到工件表面上(基片上),這種鍍膜離化率高,被稱為離子鍍的一種?,F在市面上普遍使用于多弧靶頭,一般直徑?60-?100。新型有?160,還有矩形、柱狀陰極弧等廣為使用。
8、空心陰極:在真空條件下,用空心陰極等離子電子束作為蒸發源,定向打在坩堝中,在坩堝中放入鍍膜材料。材料被蒸發鍍在被鍍物體上,這種鍍膜的過程中帶電粒子較多。因此多用來鍍制工具、模具、道具等。
9、等離子體化學氣相沉積(PECVD)
在真空條件下通過附加電場產生等離子體,這時在通入反應氣體、液體等。在真空室中電離后附著在被鍍物體表面的過程。目前PECVD用法越來越廣,用它來取代CVD。因為PECVD不用CVD那么高溫度就可以達到更好膜層,因此越來越被廣大用戶喜歡。

 

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